碳化硅適用于加工硬質合金，玻璃，陶瓷和非金屬材料外，還用于半導體材料，高溫硅碳棒發(fā)熱體等。以下是碳化硅在冶煉中產生的雜質：
電工碳化硅冶煉爐子中，雜質的含量更可高達5%，由原料帶入的雜質主要是鋁，鐵，鈣的氧化物，由回爐料帶入的主要是鋁，鐵，鈣一等級合金或者它們的氧化物（氧化鐵，氧化鋁，氧化鈣等等）這些雜質的存在嚴重影響了碳化硅的總體含量。
實驗證明：爐料內氧化鈣與氧化鋁的總體含量如果達到了3%，就會使一等級碳化硅的結晶產物大約減少40%。由此可見碳化硅質量也與這些雜質有很大的關系。
去雜質的辦法：
?、偈滓獊碇v碳化硅的酸洗。酸洗通常是在加熱的條件下，用硫酸對碳化硅顆粒進行處理，主要目的是為了去掉碳化硅中的金屬鐵，氧化鐵，鎂，鋁等雜質。這么能夠很潔凈方便的去掉碳化硅中的雜質。
②其次是碳化硅的堿洗。碳化硅的堿洗通常是在加熱的條件下，用NAOH對碳化硅顆粒進行處理，主要目的是除掉外表的游離硅，二氧化硅等等，這么能夠進步碳化硅的含量，加強它的碳化硅含量。
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